Laboratorio & Semiconductores
Sistemas de oxidación de laboratorio de ozono
Los Sistemas de Oxidación de Laboratorio de Ozono permiten la desinfección de equipos de laboratorio como mezcladores, secadores, campanas extractoras, cámaras frigoríficas, hornos, etc; La desinfección de áreas de trabajo como bancas, pisos y cámaras; El tratamiento de aguas residuales o la eliminación de olores sin necesidad de productos químicos peligrosos
Semiconductor de ozono y ALD
En la industria de los semiconductores y los procesos de fabricación de chips, es necesario limpiar obleas, eliminar metales y partículas orgánicas, eliminar fotorresistentes y desinfectar las instalaciones de agua desionizada. Como alternativa a las limpiezas tradicionales con peróxido de ácido sulfúrico y RCA que utilizan mezclas de peróxido de hidrógeno básico (SC-1) y ácido (SC-2), el ozono ofrece un menor consumo de productos químicos y menores costos de eliminación con una limpieza de alta eficiencia.
Ozono Ultra-Puro
El ozono de alta pureza se puede utilizar para muchas aplicaciones avanzadas. Por ejemplo, en la industria de la microelectrónica, el uso de ozono ultrapuro se ha utilizado para el crecimiento de películas delgadas en varias técnicas de deposición. Absolute Ozone® puede respaldar esta y muchas otras aplicaciones al producir ozono de alta pureza con un menor consumo de oxígeno.
Ozono de Ultra alta Concentración
En algunas aplicaciones avanzadas, es necesaria una alta concentración de ozono. Absolute Ozone® puede respaldar todas estas aplicaciones al producir altas concentraciones de ozono con un menor consumo de oxígeno.
Los generadores Absolute Ozone® son un salto cuántico en el avance de la tecnología del ozono. Nuestros generadores pueden convertir oxígeno hasta 350 g/Nm3 produciendo ozono de alta concentración hasta un 22% en peso superior. Una alta concentración significa que se coloca más ozono en el mismo volumen de una cámara de reacción, lo que acelera la reacción y el tiempo de procesamiento.
